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湿法去胶机的技术配景

去胶工艺是半导体行业必不可少的工艺流程，去胶的目的是快速有效的去胶而不影响下面的各层质料
。很久以前，去胶设备技术落后、体积庞大、浪费清洗剂且清洗不到位，在清洗历程中喷洒不均匀还会对其他零部件造成损坏
。针对现有技术的缺乏，湿法去胶机的泛起，解决了这个问题
。不但提供了自动单片湿法去胶机，并且也解决了现有去胶机对晶圆时去胶效率慢、去胶全面性缺乏，且还需要多次返工去胶，进一步影响事情人员事情效率的问题
。

晶圆片加工历程中，蚀刻后在晶圆上经常存留剩余的胶体，这时经常通过浸泡的方法将晶圆片上胶体去除
。在湿法浸泡去胶的历程中，经；岜⒋笞谟泻ζ，因此需要对浸泡晶圆片的浸泡池进行密封，同时需要在浸泡设备中添加抽气结构
。针对以上问题，湿法去胶机可以快速取换晶圆片的晶圆湿法浸液式去胶机
。

湿法去胶机的技术原理主要是利用溶剂对胶接层进行溶解和清洗，从而抵达去除胶接层的目的
。湿法去胶机通常接纳有机溶剂作为清洗介质，这些溶剂能够有效地溶解和去除种种类型的胶接层，如环氧树脂、聚氨酯、丙烯酸等
。

湿法去胶机的事情历程一般包括以下几个办法：

1. 将待处理的工件放入去胶机的清洗槽中
。

2. 向清洗槽中注入适量的溶剂，使溶剂能够充分浸泡工件
。

3. 启动去胶机的搅拌装置，使溶剂在清洗槽中循环流动，以增强清洗效果
。

4. 控制清洗时间和温度，让溶剂与胶接层充分作用，抵达去除胶接层的目的
。

5. 清洗完成后，将工件取出，用清水冲洗洁净，以去除残留的溶剂和污染物
。

6. 然后，将工件进行干燥处理，以确保其外貌干燥
。

需要注意的是，湿法去胶机在使用历程中需要注意宁静，制止溶剂接触皮肤和眼睛，同时要做好通风步伐，以避免溶剂挥发爆发的有害气体对人体造成伤害
。别的，差别类型的胶接层需要选择差别的溶剂进行清洗，不然可能会导致清洗效果欠好或者对工件造成损害
。