等离子体干法去胶事情原理及应用
 

　　1) 等离子去胶反应机理：

　　在干法等离子去胶工艺中
，氧是主要侵蚀气体。它在真空等离子去胶机反应室中受高频及微波能量作用
，电离爆发氧离子、游离态氧原子 O*、氧分子和电子等混淆的等离子体
，其中具有强氧化能力的游离态氧原子 （约占 10-20%）在高频电压作用下与光刻胶膜反应： O2→O*+ O*
， CxHy + O*→CO2↑+ H2O↑。反应后天生的 CO2 和 H2O
，随即被抽走。

　　2) 等离子去胶操作要领：

　　将待去胶片插入石英舟并平行气流偏向
，推入真空室两电极间
，抽真空到 1.3Pa
，通入适量氧气
，坚持反应室压力在 1.3-13Pa
，加高频功率
，在电极间爆发淡紫色辉光放电
，通过调理功率、流量等工艺参数
，可得差别去胶速率
，当胶膜去净时
，辉光消逝。

　　3）等离子去胶影响因素：

　　频率选择：频率越高
，氧越易电离形成等离子体。频率太高
，以至电子振幅比其平均自由程还短
，则电子与气体分子碰撞几率反而镌汰
，使电离率降低。一样平常常用频率为 13.56MHz及2.45GHZ 。

　　功率影响：关于一定量的气体
，功率大
，等离子体中的的活性粒子密度也大
，去胶速率也快；但当功率增大到一定值
，反应所能消耗的活性离子抵达饱和
，功率再大
，去胶速率则无显着增添。由于功率大
，基片温度高
，以是应凭证工艺需要调理功率。

　　真空度的选择：适当提高真空度
，可使电子运动的平均自由程变大
，因而从电场获得的能量就大
，有利电离。另外当氧气流量一准时
，真空度越高
，则氧的相比照例就大
，爆发的活性粒子浓度也就大。但若真空度过高
，活性粒子浓度反而会减小。

　　氧气流量的影响：氧气流量大
，活性粒子密度大
，去胶速率加速；但流量太大
，则离子的复合几率增大
，电子运动的平均自由程缩短
，电离强度反而下降。若反应室压力稳固
，流量增大
，则被抽出的气体量也增添
，其中尚没加入反应的活性粒子抽出量也随之增添
， 因此流量增添对去胶速率的影响也就不甚显着。