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湿法去胶机厂家浅谈涂胶显影装备

湿法去胶机厂家浅谈涂胶显影装备共分为四个方面：

（1）涂胶显影装备分类

涂胶和显影是光刻前后的主要办法
，装备以差别工艺所用的光刻胶、要害尺寸等方面的差别来分类。

（2）涂胶显影装备市场空间和名堂

2021年全球前道涂胶显影装备销售额为 20亿美元
，预计到 2022 年有望凌驾 25 亿美元。

（3）涂胶显影装备的行业和手艺特点

显影的精度即为光刻的精度
，因此涂胶显影装备对要害制程的形成也十分主要。

涂胶显影装备涉及机械、化学、热处置惩罚等多方面手艺。

除了前道的 EUV 光刻带来的高端增量以外
，相对低端后道封测、LED 制造等用的涂胶显影装备也保存市场增量。

（4）涂胶显影装备海内现状

用于前道晶圆制造的涂胶显影装备尚处于新进阶段
，产品有发往上；Α⒊そ 储、中心绍兴、上；等多个客户验证
，有部分产品通过验证并获得订单。现在的主要产品为用于后道先进封装和 LED 制造等的涂胶显影装备
，产品进入主流大客户。